Szukaj
Kategorie książek
Kategorie główne
Promocje- albumy
- audiobooki
- biografie
- biznes
- czasopisma
- dla dzieci
- humor
- słowniki
- fantastyka
- historia
- hobby, pasje
- informatyka
- języki
- kalendarze
- komiksy
- kulinaria
- literatura w jęz. ang.
- reportaż
- literatura piękna
- medycyna
- motoryzacja
- nauka
- pedagogika
- podręczniki
- poradniki
- prawo
- psychologia
- religia
- kryminał
- sport
- sztuka
- turystyka
Strona główna » podręczniki i lektury » Podręczniki akademickie » Techniczne » Architektura, budownictwo
Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej
A.J. Michalski
 |
|   Cena detaliczna: 21,00 zł Twoja cena: 20,00 zł (rabat: 5%) |
Książka zawiera niezbędne wiadomości niezbędne do zrozumienia zjawisk występujących w procesie krystalizacji powłok z fazy gazowej pod obniżonym ciśnieniem. Omówiono w niej termodynamiczną i atomowo-statystyczną teorię zarodkowania powłok. Szczególną uwagę poświęcono metodom nakładania powłok z fazy gazowej z udziałem plazmy, powstającej w różnych rodzajach wyładowań elektrycznych.
Zobacz inne produkty z kategorii - Architektura, budownictwo
 Obliczanie konstrukcji budynków wznoszonych tradycyjnie Hoła Jerzy, Pietraszek Piotr, Schabowicz Krzysztof  Cena: 66,50 zł |
 Rzutowanie na płaszczyznę i w przestrzeni elementów drewnianej obudowy dachów (skrypt) Kernicka Marta, Kernicki Iwan Cena: 4,80 zł |
 Systemy oddymiania budynków. Wentylacja Mizieliński Bogdan Cena: 42,90 zł |
Spis treści - Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej:
PRZEDMOWA
SPIS OZNACZEŃ
Rozdział 1. PODSTAWY KINETYCZNEJ TEORII GAZÓW
1.1. Prędkość cząsteczek gazu
1.2. Ciśnienie gazu
1.3. Średnia droga swobodna
Rozdział 2. OTRZYMYWANIE PRÓŻNI
Rozdział 3. KRYSTALIZACJA POWŁOK Z FAZY GAZOWEJ
3.1. Termodynamiczna teoria zarodkowania
3.2. Statystyczno-atomowa teoria zarodkowania
3.3. Wzrost powłoki
Rozdział 4. TERMICZNE NAPAROWYWANIE PRÓŻNIOWE
4.1. Parowanie
4.2. Źródła par
4.3. Zastosowanie termicznego naparowywania próżniowego
4.4. Mikrostruktura powłok naparowywanych próżniowo
Rozdział 5. CHEMICZNE OSADZANIE POWŁOK Z FAZY GAZOWEJ
5.1. Podstawowe zjawiska w procesie chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej
5.2. Reakcje chemiczne w procesach chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej
5.3. Termodynamika procesów chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej
5.4. Nakładanie powłok metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej
Rozdział 6. PLAZMA
6.1. Kwazineutralność plazmy
6.2. Elementarne procesy w plazmie
6.3. Temperatura plazmy
Rozdział 7. OTRZYMYWANIE PLAZMY W ELEKTRYCZNYCH WYŁADOWANIACH W GAZIE
7.1. Przebicie gazu
7.2. Wyładowanie jarzeniowe prądu stałego
7.3. Wyładowanie łukowe pod obniżonym ciśnieniem
7.4. Wyładowanie jarzeniowe częstotliwości radiowej
7.5. Wyładowanie mikrofalowe
7.6. Silnoprądowe wyładowanie impulsowe
Rozdział 8. ROLA PLAZMY W PROCESIE OSADZANIA POWŁOK
8.1. Reakcje chemiczne w plazmie
8.2. Oddziaływanie jonów z podłożem
8.3. Krystalizacja z fazy gazowej z udziałem plazmy
8.4. Mikrostruktura powłok osadzanych z fazy gazowej z udziałem plazmy
Rozdział 9. FIZYCZNE OSADZANIE POWŁOK Z FAZY GAZOWEJ Z UDZIAŁEM PLAZMY
9.1. Pokrywanie jonowe
9.2. Parowanie z wykorzystaniem silnoprądowych wyładowań elektrycznych
9.3. Rozpylanie jonowe
9.4. Chemiczne nakładanie powłok z fazy gazowej z udziałem plazmy
BIBLIOGRAFIA
SKOROWIDZ
SPIS OZNACZEŃ
Rozdział 1. PODSTAWY KINETYCZNEJ TEORII GAZÓW
1.1. Prędkość cząsteczek gazu
1.2. Ciśnienie gazu
1.3. Średnia droga swobodna
Rozdział 2. OTRZYMYWANIE PRÓŻNI
Rozdział 3. KRYSTALIZACJA POWŁOK Z FAZY GAZOWEJ
3.1. Termodynamiczna teoria zarodkowania
3.2. Statystyczno-atomowa teoria zarodkowania
3.3. Wzrost powłoki
Rozdział 4. TERMICZNE NAPAROWYWANIE PRÓŻNIOWE
4.1. Parowanie
4.2. Źródła par
4.3. Zastosowanie termicznego naparowywania próżniowego
4.4. Mikrostruktura powłok naparowywanych próżniowo
Rozdział 5. CHEMICZNE OSADZANIE POWŁOK Z FAZY GAZOWEJ
5.1. Podstawowe zjawiska w procesie chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej
5.2. Reakcje chemiczne w procesach chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej
5.3. Termodynamika procesów chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej
5.4. Nakładanie powłok metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej
Rozdział 6. PLAZMA
6.1. Kwazineutralność plazmy
6.2. Elementarne procesy w plazmie
6.3. Temperatura plazmy
Rozdział 7. OTRZYMYWANIE PLAZMY W ELEKTRYCZNYCH WYŁADOWANIACH W GAZIE
7.1. Przebicie gazu
7.2. Wyładowanie jarzeniowe prądu stałego
7.3. Wyładowanie łukowe pod obniżonym ciśnieniem
7.4. Wyładowanie jarzeniowe częstotliwości radiowej
7.5. Wyładowanie mikrofalowe
7.6. Silnoprądowe wyładowanie impulsowe
Rozdział 8. ROLA PLAZMY W PROCESIE OSADZANIA POWŁOK
8.1. Reakcje chemiczne w plazmie
8.2. Oddziaływanie jonów z podłożem
8.3. Krystalizacja z fazy gazowej z udziałem plazmy
8.4. Mikrostruktura powłok osadzanych z fazy gazowej z udziałem plazmy
Rozdział 9. FIZYCZNE OSADZANIE POWŁOK Z FAZY GAZOWEJ Z UDZIAŁEM PLAZMY
9.1. Pokrywanie jonowe
9.2. Parowanie z wykorzystaniem silnoprądowych wyładowań elektrycznych
9.3. Rozpylanie jonowe
9.4. Chemiczne nakładanie powłok z fazy gazowej z udziałem plazmy
BIBLIOGRAFIA
SKOROWIDZ
Jak zamawiać
| Kontakt
| Regulamin
| Koszyk
| Mapa kategorii
| Mapa produktów
| Zobacz strony
| Tagi |
Ciekawe
| Newsy
| Księgarnie w Warszawie:
księgarnie internetowe Warszawa
- książki, księgarnie internetowe, internetowa księgarnia wysyłkowa.
Księgarnia Warszawa pl / Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej / Księgarnia internetowa Warszawa / Książka zawiera niezbędne wiadomości niezbędne do zrozumienia zjawisk występujących w procesie krystalizacji...